用于半导体工业的电解抛光和微加工

半导体是当今电子和技术工业的重要组成部分。电解抛光通常用作这些应用中使用的金属零件的最后一步,以创建耐腐蚀且符合严格尺寸要求的超清洁表面。

我们如何与半导体客户合作

SEMI F19-0185和半导体行业的质量保证

电解抛光能够去除表面材料的微观精确层——具有一致和可重复的结果——这是一个关键原因,它经常被指定为加工金属零件的最后一步,没有错误的空间。

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白皮书:电解抛光显著提高耐腐蚀性

了解为什么提高耐腐蚀性是各种行业的工程师依靠电解抛光来完成其关键金属零件(尤其是不锈钢零件)的最常见原因之一。三个案例研究表明了电解抛光的不同之处。

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白皮书:电解抛光去除金属零件毛刺的优点

由于许多原因,电解抛光是抛光工艺的选择,它能够去除表面材料的一层显微精确的层,并取得一致的结果。了解为什么电解抛光比其他去除毛刺的方法更有效。

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技术指南:解决金属表面7个问题

无论您是原始设备制造商(OEM)、零件制造商还是希望解决这些常见表面问题的金属加工车间,都必须找到一种解决方案,以经济高效的方式充分解决这些表面问题。

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先完成:研发过程中的电解抛光

我们的Finish First方法使世界级的设计和制造工程师能够从一开始就应对金属表面处理的挑战,这既是一种确保在渗透测试前获得更好结果的方法,也是设计和原型阶段的优势。

探索完成第一

满足带电解抛光的半导体规范

在使用我们服务的任何行业中,半导体行业都有一些最苛刻的表面光洁度要求。由于制造过程中使用的液体和气体具有腐蚀性,该行业制定了严格的规范,以确保可接受的饰面质量。Able的工艺符合这些规范,包括SEMI F19,该规范规定了电抛光316L不锈钢部件的润湿表面特性要求和光洁度验收标准。

必威体育2021年足球欧洲杯Able Electropolishing与为半导体行业制造零部件的公司合作。我们的一个客户发送一系列定制的316L SS配件,用于半导体制造设施的化学分配系统。在电解抛光后,湿表面需要10ra微英寸的抛光。此外,铬与铁的比例必须至少为1.5:1,且氧化铬的富集量必须至少为氧化铬与氧化铁的比例为2:1。结果通过光学检查,ESCA,俄歇和扫描电镜分析验证。

相对于单独的钝化,电解抛光是提高耐腐蚀性能30倍请寄样品来做电解抛光我们会计算完成度和尺寸的变化。如果在设计阶段计划电解抛光,材料去除可以考虑到您的最终尺寸规格。

优化表面光洁度、零件寿命和耐腐蚀性

金属零件的超清洗
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金属零件微精加工的好处
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提高不锈钢及铝制零件的耐腐蚀性
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电解抛光|金属去毛刺对微毛刺的好处
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